第313章 东京半导体展(3 / 4)

    林本坚说：“我还记得，Newman知道我要来东京参加半导体展，特意嘱托我，代他向你问好。”

    东哲郎笑道：“虽然只和Newman见过一面，但是他确实是了不起的人物。

    他没有再掀起什么风浪，却时常能够从各类媒体上看到他的身影，甚至在东京街头的线下支付，看到NewPay的标识，我都会想到Newman。

    林君，帮我向周先生转达我的谢意，以华国的半导体发展速度，我迟早要去华国一趟，期待到时候和周先生的把酒言欢。”

    东哲郎在霓虹非常有能量，他的影响力绝对不仅仅只在半导体领域，他后来会陆续担任七一控股（旗下有711和伊藤洋华堂）、野村控股和宇部兴产的董事。

    林本坚点头：“我肯定传达到位。

    如果没有你当年的帮助，我们没有办法那么快和尼康取得联系，更没有那么快在光刻机领域打开局面。”

    东哲郎在得到消息的时候很惊讶，因为业内一直都知道新芯在尝试走另外一条路，和尼康、佳能、ASML都截然不同的路，浸润式光刻很早就有人提过，只是没有人成功过，有很多技术难点要克服。

    在霓虹的半导体产业内部交流的时候，大家都表示如果这件事是一家华国企业来做，他们一定会认为这是不可能的，但是因为这家企业是新芯，霓虹的企业并不认为新芯是华国企业，他们认为这是一家在华国的阿美利肯企业。

    因为新芯的初始员工里有大量硅谷来的华裔工程师。

    这次在听到新芯实现了光刻机领域的技术突破，顺利把制程工艺推进到了40nm，这让东哲郎既沮丧又高兴。

    沮丧是因为华国发展太快，霓虹人的身份让他天然有警惕，同时也是为尼康感到不安，新芯实现了光刻机领域的突破，尼康要何去何从？

    高兴则是因为，霓虹和华国在芯片领域更多是互补，而不是竞争，霓虹是卖半导体材料、半导体设备的，高丽才是搞芯片生产的，华国在芯片领域的崛起更多还是影响到高丽的芯片产业。

    东哲郎笑道：“我只是在其中起到了一点微不足道的作用，林君和新芯能够取得突破，靠的是你们自己的功劳。

    当年我帮你们和尼康之间牵线，尼康那边很自信的把技术卖给你们，他们在得到消息之后肯定很后悔。”

    林本坚说：“尼康仍然是这个领域的领先者，我们无非是取得了一点微不足道的优势罢了。”

    之所以ASML在实现40nm制程之后能迅速把尼康甩在身后，短短两年时间就把光刻机市场百分之七十的份额吃掉，和欧美资本集体抛弃霓虹技术有着直接关系。

    要是欧美资本不抛弃尼康，给尼康机会，这场战斗不会这么快分出胜负。

    以EUV光刻机为例，也就是所谓的EUV光源，这玩意最早就是霓虹做的实验，霓虹在1986年的时候就顺利完成了EUV光刻的实验室验证。

    霓虹在2001年的时候更是认为EUV光刻会是50nm技术节点之后最有前途的技术。

    只是他们没有想到，193nm波长的光源在浸润法的加持下，能够一直搞到7nm，然后再换EUV。

    霓虹的光刻机技术被欧美资本抛弃后再也没有了上车机会。

    东哲郎说：“林君，太谦虚了。

    在我们这个行业，技术为王，技术优势就是一切。

    后天的展会上一旦你向参会的企业代表们证明了新芯的光刻技术能够帮助芯片从65nm进入到40nm时代，那么整个半导体产业都将用脚投票，放弃尼康转投新芯。